Professur für Computational Material Design

Wir haben zahlreiche aktuelle Forschungsaktivitäten im Bereich „High-Throughput Materials Discovery, wo wir auf große Erfahrung im automatisierten Einsatz von Dichte-Funktional-Theorie (DFT) aufbauen. Außerdem setzen wir linear-skalierende Methodik (ONETEP) ein, um nano-skalige Effekte zu untersuchen und entwickeln in Collaboration aktiv ab initio Methoden zur Untersuchung geladener Oberflächen und elektrochemischer Prozesse.

Der Lehrstuhl baut momentan mehrere Labore auf. Es entsteht ein Reinraum mit einem Ultra-Hoch-Vacuum Cluster Tool zur Herstellung und Charakterisierung kombinatorischer Dünnschichtsysteme. Chemische Gradienten werden durch physikalische Gasphasenabscheidung (physical vapour deposition – PVD) von bis zu sechs Elementen gleichzeitig hergestellt und mittels integriertem XRD und XPS/ARPES kristallographisch und in Bezug auf chemische bzw. elektronische Eigenschaften charakterisiert. Dies erlaubt die Synthese und Charaterisierung auch sehr empfindlicher Materialien ohne das diese das UHV verlassen müssen. Weiterhin besteht die Möglichkeit Proben in Schutzathmosphäre ein- und auszuschleusen.

Weiterhin betreibt der Lehrstuhl ein Micro-CT, welches zur Untersuchung komplexer Komposite eingesetzt wird, ein naßchemisches Labor mit einer Vielzahl elektrochemischer Messtationen inclusive eines elektrochemischen Massenspektrometers zur Produktanalyse elektrokatalytischer Prozesse.

Der CMD Lehrstuhl ist Teil des „Advanced Materials Clusters“ an der HSU/UniBw H (Materials Processing Technologies, Mechanics, Numerical Mathematics, Thermodynamics and Molecular Simulations), und arbeitet eng mit dem Lehrstuhl für High-Performance Computing zusammen, um allgemeine, grundlegende wissenschaftliche Fragestellungen und spezifische Anwendungsherausforderungen zu erforschen. Dabei arbeiten wir eng mit Partnern in der Metropol-Region Hamburg, deutschlandweit und international zusammen.